精密電鑄光柵是利用電化學沉積原理，在具有光柵結構的母模表面沉積金屬，形成與母模光柵結構互補的金屬復制件。具體來說，將母模作為陰極，放入含有金屬離子的電解液中，通過施加直流電，使電解液中的金屬離子在母模表面還原并沉積，逐漸形成金屬光柵層。
高精度：能夠復制出母模的精細光柵結構，線寬精度可達微米甚至納米級別，滿足高精度光學測量和光譜分析等領域的需求。
高反射率：經過適當的鍍膜處理后，可具有高反射率，能夠有效地反射特定波長的光，提高光學系統的效率。
耐用性：金屬材質的電鑄光柵具有良好的機械強度和耐磨性，能夠在惡劣的工作環境下長期穩定工作。
復雜結構可加工性：可以制作出各種復雜的光柵結構，如正弦光柵、矩形光柵、閃耀光柵等，以及非規則形狀和陣列結構的光柵，滿足不同應用場景的需求。
產品優勢
光譜分析：用于光譜儀中，將復合光分解為不同波長的單色光，實現對物質的成分和結構分析。
激光技術：作為激光諧振腔的反射鏡或光束分離器，控制激光的輸出波長、模式和功率。
光學儀器：如顯微鏡、望遠鏡等，用于調節光路、控制光束強度和方向，提高儀器的分辨率和成像質量。
精密測量：在編碼器、位移傳感器等精密測量儀器中，用于精確測量角度、位移和速度等物理量。
更高精度：隨著科技的不斷發展，對精密電鑄光柵的精度要求越來越高，未來將朝著納米級甚至更高精度方向發展。
多功能集成：將電鑄光柵與其他光學元件或功能材料集成在一起，實現多種功能的一體化，如集成濾波、偏振等功能。
工藝智能化：利用人工智能、機器學習等技術，對電鑄工藝進行優化和控制，提高生產效率和產品質量，降低成本
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